Ultraschall-Reinigungsmaschine für Halbleiter-Siliziumwafer mit fünf Schlitzen
| Produktmarke |
Jietai |
|---|---|
| Merkmale |
1. Trocknungstank: Kann Zeit und Temperatur unabhängig einstellen, mit Alarmbenachrichtigungsfunktion, wenn die Trocknung abgeschlossen ist; 2. Innentankmaterial: Hergestellt aus Edelstahl 304, auf 2 mm verdickt, manuelles Argonschweißen, stark und langlebig; 3. Die Zeit ist einstellbar: 1–99 Minuten/Stunde, kann immer eingeschaltet sein; 4. Wandler in Industriequalität: Er verwendet einen Industrievibrator, der leistungsstark und effektiv ist und 24 Stunden am Tag arbeiten kann; 5. Filtrationszirkulationsfunktion: Die Zirkulation fördert die Lösungsmittel, spart Kosten und sorgt für eine gute Reinigungswirkung. 6. Generatorsteuerungssystem: unabhängiges Generatorsteuerungssystem mit flexibler Steuerung, das die Ultraschallleistung an die Reinigungsbedürfnisse des Benutzers anpassen kann; 7. Automatisches Heizsystem mit konstanter Temperatur: 20–95 Grad einstellbar, ausgestattet mit Edelstahl-Heizrohr, schnelle Heizgeschwindigkeit; 8. Gerätenetzkabel: Verwenden Sie ein industriell verdicktes Netzkabel, das sicher und langlebig ist. 9. Speicherfunktion: Das Gerät verfügt über einen unabhängigen Speicherchip, sodass nach dem Einstellen der Uhrzeit kein Zurücksetzen erforderlich ist. |
| Andere Eigenschaften |
Dieses Produkt unterstützt nicht standardmäßige Anpassungen und kann Konstruktionszeichnungen und Reinigungspläne bereitstellen. |
Produktdetails
Konfiguration der Fünf-Tank-Ultraschallreinigungsausrüstung für Siliziumwafer von Jietai Semiconductor:
Der erste Tank: Ultraschallreinigung + Filterzyklus
Funktion: Filtern Sie das gereinigte Öl, Verunreinigungen und Staub, um Reinigungsmittel zu sparen
Der zweite Tank: Ultraschallreinigung
Funktion: Nach der Reinigung im ersten Tank noch einmal im Spültank nachspülen, um die Sauberkeit zu verbessern
Der dritte Schritt: Ultraschallspülung
Funktion: Verwenden Sie Reinstwasser als Reinigungsmittel, um die Produktspülung sauberer zu machen
Der vierte Tank: langsame Dehydrierung
Funktion: Langsamer Dehydrierungstank für organische Lösungsmittel unter Verwendung von Alkohol oder IPA als Dehydrierungslösungsmittel. Schließen Sie den Kühler an, um die Temperatur zwischen 5 und 35 °C zu regeln, um die Verflüchtigung des Lösungsmittels zu reduzieren und eine sichere Anwendungsumgebung zu gewährleisten. Installieren Sie einen Slow-Pull-Hebemechanismus, um das Reinigungsprodukt langsam anzuheben und eine Entwässerung ohne Wasserflecken zu erreichen.
Der fünfte Tank: Heißlufttrocknungstank
Funktion: Nach den ersten 4 Vorgängen werden 5 Schlitze zur Heißluftzirkulationstrocknung genutzt und die Reinigungsgegenstände getrocknet
Darüber hinaus können weitere individuelle Funktionen wie Rollen, Sprudeln, Werfen, Heben, Windschneiden usw. entsprechend Ihrer Größe und Spezifikationen angepasst werden. Fragen Sie unsere Vertriebstechnik nach der zu übernehmenden Lösung und stellen Sie kostenlose technische Lösungsspezifikationen zur Verfügung.